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窒素ガス発生装置 膜分離方式
フクハラの窒素ガス発生装置
ガス分離膜方式により、窒素純度は９９％。
| ＭＡＸＮ２® 膜分離方式 | ||
| 圧縮空気をガス分離膜（中空糸膜）に送り込みますと、膜から透過しやすい水分、酸素等が膜を通り抜けて膜外にパージされます。 膜を透過しなかった窒素、アルゴンガス等が製品として取り出されます。なお膜はクリーンな空気圧の使用においては半永久的に使用が可能です。 |
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窒素ガス発生装置 膜分離方式 特長
膜分離方式の特長は・・・
- 圧縮空気を接続するだけで、純度99％の窒素ガスが得られます。
- イニシャルコストが安価です。
- 低露点-60℃以下。(97％時)
- 製品原料は圧縮空気と電気です。(無電源装置にもなります。)
- スペースをとらないコンパクト設計です。
- 高圧ガス保安法、第二種圧力容器の適用範囲外です。
窒素ガス発生装置 膜分離方式 ラインナップ
膜分離方式は低純度(90～99.5％程度)に向いています。
装置の利用には、コンプレッサー、または圧縮空気の用意をお願いします。
| 型式 | 窒素ガス純度 ％ |
窒素ガス発生量 NL/min |
窒素ガス 取出圧力 MPa |
寸法 (W×D×H)mm | 質量 kg | 必要空気量 (圧力0.7MPa時) L/min |
| N2B1-HL7 | 97 | 16 | 0.7 | 500×620×1,020 | 70 | 54 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| N2B2-HL7 | 32 | 75 | 108 | |||
| N2C2-HL7 | 55 | 590×620×1,350 | 120 | 180 | ||
| N2D2-HL7 | 98 | 319 | ||||
| N2D3-HL7 | 147 | 130 | 478 | |||
| N2D5-HL7 | 245 | 150 | 796 | |||
| N2C1-HL9 | 99 | 16 | 590×620×1,350 | 105 | 73 | |
| N2C2-HL9 | 32 | 110 | 146 | |||
| N2C3-HL9 | 48 | 130 | 219 | |||
| N2D3-HL9 | 80 | 387 | ||||
| N2D4-HL9 | 107 | 140 | 515 | |||
| N2D6-HL9 | 160 | 590×900×1,350 | 180 | 773 |
